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CRF plasma 等離子清洗機

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機

20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家

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常壓等離子處理機

CRF-APO-R&D-DXX

可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;

設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節(jié)省客戶使用空間;

可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;

使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制。

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設(shè)備詳細數(shù)據(jù)

名稱 噴射型AP等離子處理系統(tǒng)
等離子電源型號 CRF-APO-R&D-DXX
直噴式等離子噴槍型號 直噴式:DXXOption:2mm-6mm
電源 220V/AC,50/60Hz
功率 1000W/25KHz(Option
功率因素 0.8
處理高度 5-15mm
處理寬幅 直噴式:1-6mmOption
內(nèi)部控制模式
數(shù)字控制
外部控制模式
啟停I/O
工作氣體
Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa)
電源重量
8kg

應(yīng)用范圍

      等離子處理設(shè)備主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

      等離子體是物質(zhì)的一種存有狀態(tài),一般物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣體三種情況存有,但在一些特殊情況下可以以第四態(tài)存在,如太陽表面和對大氣層中存有的電離物質(zhì)。這類物質(zhì)處在一種稱為等離子體的情況,也就是物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體中存在以下物質(zhì):高速運行的電子、中性原子、分子、原子團(自由基)、離子化原子、分子;由分子結(jié)構(gòu)離解反應(yīng)生成的紫外光、未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)依然維持電荷平衡中性的情況。

      等離子處理設(shè)備廠家生產(chǎn)制作的設(shè)備可用于消除金屬表層的去油有機物以及氧化層清洗,在濺射、噴涂、粘合、焊接,錫焊和PVD,CVD涂覆前,開展等離子處理,才可以得到完全整潔的表面無氧化的表層。等離子化解決在這類狀況下能夠造成下列反應(yīng):

      1、灰化表面有機層

      材料表面將遭受化學(xué)轟擊;受到高溫狀態(tài)下污染物會蒸發(fā)出來;環(huán)境污染物質(zhì)在較高能正離子的沖擊性下被破碎,隨后釋放出。

      因為等離子每秒鐘只有透過數(shù)納米薄厚,因而污染層不可以太厚。

      2、等離子清洗設(shè)備用以除去金屬氧化物

      氧化物與處理的氣體產(chǎn)生化學(xué)變化,這一過程用氫或氫與氬的混合物來開展。有時也選用二步生產(chǎn)加工技術(shù),開始用氧氣將表層氧化五分鐘,隨后用氫與氬的混合物去除氧化層。 

      3、等離子蝕刻用于焊接

      一般狀況下,印刷電路板在焊接前用有機化學(xué)助焊劑處理。這種化學(xué)物焊后需要用等離子法去除,不然會產(chǎn)生腐蝕等問題 

      4、等離子去膠、鍵合

      電鍍工藝、粘合、焊接工作中的殘余物會消弱優(yōu)良鍵合,這種殘余物可以用等離子法有選擇性地除去。另外空氣氧化這也會危害鍵合的品質(zhì),也是需要等離子清洗。

PTFE膜等離子設(shè)備活化處理的PTFE膜有哪些?流程怎么樣?
      提高PTFE膜粘接力的三種表面處理方式,它們的特點及處理效果各不相同,今天重點介紹一下ptfe膜等離子設(shè)備中的活化處理。
      ptfe膜等離子設(shè)備活化處理,可提高PTFE膜材料表面的粘附力,有哪些膜可以使用等離子設(shè)備處理?那么整個活化處理過程是怎樣的呢?下面讓我們一起來了解。
      由于不同的應(yīng)用場合和不同的材料組成,PTFE薄膜可以分為多種不同的類型,而等離子設(shè)備可以處理哪些PTFE薄膜,這一點也可以說是相當多的就不一一列舉了,以下是PTFE膜比較典型的幾種材料,對其進行了處理。
      1、添加紅色顏料和玻璃纖維的PTFE薄膜;
      2、添加石墨或碳粉的PTFE薄膜。
      3、陶瓷粉末的PTFE薄膜的加入。
      由于以上PTFE膜是其他材料的添加或復(fù)合,所以在具體的ptfe膜等離子設(shè)備活化處理過程中,需要對相應(yīng)的工藝參數(shù)進行調(diào)整。所以不同的PTFE膜,不同的處理目的,往往對應(yīng)著不同的工藝參數(shù),而等離子體表面處理工藝是有一定流程的,下面以PTFE膜中摻入一定比例的陶瓷粉為例給大家介紹一下。
      ptfe膜等離子設(shè)備等離子表面活化目的是將環(huán)氧樹脂與PTFE膜壓接前處理,提高與環(huán)氧樹脂的粘接力。
      等離子體表面活化過程:將處理過的PTFE膜放入真空型等離子體表面處理設(shè)備的真空腔內(nèi),關(guān)閉腔門抽真空至20-50Pa,通入優(yōu)選的一定量工藝氣體,保持一定的真空度進行等離子放電,設(shè)定功率和處理時間,待處理完成后再回流氣體進行破空,再將處理好的PTFEP四氟乙烯膜打開腔門,取出處理好的PTFEP四氟乙烯膜。
      在等離子活化效應(yīng)的檢測方面,可以通過改變水滴接觸角的角度來體現(xiàn)。另外,經(jīng)過1000小時的紫外光老化試驗,經(jīng)過處理的PTFE膜的拉力值達到9N/cm以上,而UV光老化試驗仍未剝離,拉力值在規(guī)定范圍內(nèi)變化不大,經(jīng)ptfe膜等離子設(shè)備等離子表面活化后,粘接效果合格。

常壓等離子處理機

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    認真對待每一次設(shè)備試驗

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  • 完善的服務(wù)體系

    集研發(fā)、制造、銷售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)

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    專注等離子研發(fā)20年,服務(wù)多種行業(yè)

  • 可特殊定制設(shè)備

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