應用范圍

      等離子處理設備主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理；連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

      等離子體是物質(zhì)的一種存有狀態(tài)，一般物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣體三種情況存有，但在一些特殊情況下可以以第四態(tài)存在，如太陽表面和對大氣層中存有的電離物質(zhì)。這類物質(zhì)處在一種稱為等離子體的情況，也就是物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體中存在以下物質(zhì)：高速運行的電子、中性原子、分子、原子團(自由基)、離子化原子、分子；由分子結構離解反應生成的紫外光、未反應的分子、原子等，但物質(zhì)依然維持電荷平衡中性的情況。

      等離子處理設備廠家生產(chǎn)制作的設備可用于消除金屬表層的去油有機物以及氧化層清洗，在濺射、噴涂、粘合、焊接，錫焊和PVD，CVD涂覆前，開展等離子處理，才可以得到完全整潔的表面無氧化的表層。等離子化解決在這類狀況下能夠造成下列反應：

      1、灰化表面有機層

      材料表面將遭受化學轟擊；受到高溫狀態(tài)下污染物會蒸發(fā)出來；環(huán)境污染物質(zhì)在較高能正離子的沖擊性下被破碎，隨后釋放出。

      因為等離子每秒鐘只有透過數(shù)納米薄厚，因而污染層不可以太厚。

      2、等離子清洗設備用以除去金屬氧化物

      氧化物與處理的氣體產(chǎn)生化學變化，這一過程用氫或氫與氬的混合物來開展。有時也選用二步生產(chǎn)加工技術，開始用氧氣將表層氧化五分鐘，隨后用氫與氬的混合物去除氧化層。 

      3、等離子蝕刻用于焊接

      一般狀況下，印刷電路板在焊接前用有機化學助焊劑處理。這種化學物焊后需要用等離子法去除，不然會產(chǎn)生腐蝕等問題 

      4、等離子去膠、鍵合

      電鍍工藝、粘合、焊接工作中的殘余物會消弱優(yōu)良鍵合，這種殘余物可以用等離子法有選擇性地除去。另外空氣氧化這也會危害鍵合的品質(zhì)，也是需要等離子清洗。

PTFE膜等離子設備活化處理的PTFE膜有哪些？流程怎么樣？
      提高PTFE膜粘接力的三種表面處理方式，它們的特點及處理效果各不相同，今天重點介紹一下ptfe膜等離子設備中的活化處理。
      ptfe膜等離子設備活化處理，可提高PTFE膜材料表面的粘附力，有哪些膜可以使用等離子設備處理？那么整個活化處理過程是怎樣的呢？下面讓我們一起來了解。
      由于不同的應用場合和不同的材料組成，PTFE薄膜可以分為多種不同的類型，而等離子設備可以處理哪些PTFE薄膜，這一點也可以說是相當多的就不一一列舉了，以下是PTFE膜比較典型的幾種材料，對其進行了處理。
      1、添加紅色顏料和玻璃纖維的PTFE薄膜；
      2、添加石墨或碳粉的PTFE薄膜。
      3、陶瓷粉末的PTFE薄膜的加入。
      由于以上PTFE膜是其他材料的添加或復合，所以在具體的ptfe膜等離子設備活化處理過程中，需要對相應的工藝參數(shù)進行調(diào)整。所以不同的PTFE膜，不同的處理目的，往往對應著不同的工藝參數(shù)，而等離子體表面處理工藝是有一定流程的，下面以PTFE膜中摻入一定比例的陶瓷粉為例給大家介紹一下。
      ptfe膜等離子設備等離子表面活化目的是將環(huán)氧樹脂與PTFE膜壓接前處理，提高與環(huán)氧樹脂的粘接力。
      等離子體表面活化過程：將處理過的PTFE膜放入真空型等離子體表面處理設備的真空腔內(nèi)，關閉腔門抽真空至20-50Pa，通入優(yōu)選的一定量工藝氣體，保持一定的真空度進行等離子放電，設定功率和處理時間，待處理完成后再回流氣體進行破空，再將處理好的PTFEP四氟乙烯膜打開腔門，取出處理好的PTFEP四氟乙烯膜。
      在等離子活化效應的檢測方面，可以通過改變水滴接觸角的角度來體現(xiàn)。另外，經(jīng)過1000小時的紫外光老化試驗，經(jīng)過處理的PTFE膜的拉力值達到9N/cm以上，而UV光老化試驗仍未剝離，拉力值在規(guī)定范圍內(nèi)變化不大，經(jīng)ptfe膜等離子設備等離子表面活化后，粘接效果合格。