真空等離子設(shè)備刻蝕處理后NGTi基TIO2薄膜使其親水性增強(qiáng)：
        納米晶體鈦(NGT1)有著無(wú)毒、比強(qiáng)度大、低彈性模量良好的生物活性等優(yōu)點(diǎn)，成為生物材料領(lǐng)域的一個(gè)研究熱點(diǎn)。TIO2薄膜是一類(lèi)優(yōu)質(zhì)生物活性材質(zhì)，近些年漸漸代替羥基磷灰石涂層，后者因與金屬植入材質(zhì)結(jié)合力不良而限制其應(yīng)用。
粗晶粒鈦基TIO2薄膜相比，TIO2薄膜有著更加優(yōu)異的生物活性和膜/基界面結(jié)合力，并且室溫下在NGTi表面很容易獲得單一金紅石型TIO2薄膜。提升NGTI基金紅石型TIO2薄膜的生物活性，擴(kuò)大NGTI/TIO2復(fù)合材料在人工關(guān)節(jié)和骨創(chuàng)傷產(chǎn)品等領(lǐng)域的應(yīng)用前景具有重要意義。

        高表面能的TIO2薄膜可以促進(jìn)成骨細(xì)胞的發(fā)育。提升TIO2薄膜表面能的方法有離子摻雜紫外光照射、Ar等離子體清洗機(jī)等離子體表面改性等。Ar等離子體清洗機(jī)等離子體處理后，NGTi基TIO2薄膜變得非常致密光滑和平整，并且出現(xiàn)納米級(jí)微坑。室溫下NGTi表面能獲得大量結(jié)晶狀金紅石型TiO2顆粒，而在普通基材(如玻璃硅片粗晶粒金屬基)表面用磁控濺射技術(shù)制備的TiO2薄膜很難觀察到這一現(xiàn)象。
        真空等離子設(shè)備對(duì)薄膜有著轟擊刻飾和清洗效果，這使得TIO2薄膜表層的非連續(xù)和非致密的顆粒被Ar真空等離子設(shè)備清洗除去，留下平整致密和光滑的薄膜表面。Ar等離子體有著轟擊刻蝕作用，可徹底地除去試樣表面的有機(jī)污染物，因而提升T1O2薄膜的表面能;Ar等離子體處理后，TIO2薄膜表面的T14+減少并轉(zhuǎn)化為T(mén)3+,將產(chǎn)生電子空穴對(duì)，空穴與金紅石晶面的橋氧發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生氧空位。
       真空等離子設(shè)備處理后TIO2薄膜會(huì)引進(jìn)氧空位，水分子會(huì)中和這些氧空位，產(chǎn)生OH基團(tuán)，遂提升了TIO2薄膜的親水性。Ar等離子體處理顯著改善NGT基TiO2薄膜的親水性。