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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
電路板電漿清洗機蝕刻有效去除表面材料多晶硅殘留的有機膠體：
5g技術的不斷發展，國內半導體領域的濕法蝕刻技術鑒于其固有的限制性已慢慢限定了其進步，已無法符合VLSIμm甚至納米線材的加工要求。電漿清洗機多晶硅片清洗設備干法蝕刻法鑒于其產生的離子密度高，蝕刻均勻，蝕刻側壁垂直度大，表面光潔度高，能清除表面雜質，在半導體加工工藝中慢慢取得了普遍的適用。電漿表面處理機去膠，去膠氣體為O2。本產品經過將電路板放置于真空反應系統中，通入少許的O2，加上高頻高壓，由高頻信號發生器產生高頻信號，在石英管中產生較強的電磁場，使氧離子化，使氧離子、氧原子、氧分子、電子等混合物質產生輝光柱。活性原子態氧能迅速將殘余膠體氧化為易揮發氣體，并使之揮發而被帶走。
隨著現代半導體技術的進步，對蝕刻加工的要求越來越高，多晶硅片電漿蝕刻清洗設備也應運而生。確保產品生產過程穩定、重復性的關鍵因素之一是產品穩定性。CRF誠峰智造電漿清洗機是1種多功能電漿清洗機設備，經過配置不同的組件，使其具備了鍍層(涂層)、腐蝕、電漿化學反應和粉末等離子體處理等多種功能。在清除了電路板上的殘留物之后，將電路板清理干凈。電路板電漿清洗機去膠操作簡單，去膠效率高，表面干凈光潔，無劃痕，成本低，環保。
