CRF等離子體清潔機(jī)sop操作流程介紹：
       CRF等離子體清潔機(jī)能通過(guò)調(diào)整原材料的表面來(lái)增強(qiáng)表面能量，粘接，印刷和潤(rùn)濕。并且還可以提供等離子體的防水涂層產(chǎn)品。實(shí)際上，絕大多數(shù)的材料都能夠等離子處理。

       等離子表面處理設(shè)備處置的污染物基本上都是無(wú)形的，應(yīng)屬納米級(jí)。這種污染物影響到物體與其他物質(zhì)如膠水或墨水相互作用的能力。用等離子體處理物體表面，可去除有機(jī)化合物。等離子表面處理設(shè)備能夠提高粘結(jié)劑或焊料的粘結(jié)力和印刷穩(wěn)定性。本工藝適用于光亮塑料和橡膠，雜質(zhì)去除后可直接印刷粘合。等離子體清潔機(jī)可廣泛應(yīng)用于原材料的表面活化改性，以提高其粘結(jié)性能等。下面介紹等離子體清潔機(jī)的清洗原理：
1、清洗后的工件送入真空等離子清洗機(jī)的空腔并固定，啟動(dòng)操作裝置，開(kāi)始排氣，使真空室的真空度達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)的10帕，一般排放時(shí)間約為幾十秒。對(duì)等離子體進(jìn)行未經(jīng)化學(xué)處理的任何一種表面改性方法，稱為干蝕。在等離子蝕刻過(guò)程中，所有等離子清洗的產(chǎn)品都是干腐蝕的。等離子體腐蝕類似于等離子體清洗。而等離子蝕刻則是用來(lái)去除已處理表面層雜質(zhì)。
2、將經(jīng)等離子體清潔機(jī)的氣體引入真空室，并保持內(nèi)腔壓力穩(wěn)定。根據(jù)清潔原材料的不同，可以分別使用氧氣，氬氣，氫氣，氮?dú)猓姆嫉葰怏w。氧-等離子體處理是目前常用的干法腐蝕方法之一。氧(有時(shí)與氬混合)用于處理鋁、不銹鋼、玻璃、塑料和陶瓷表面。
3、等離子體清潔機(jī)真空室內(nèi)電極與接地設(shè)備之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并發(fā)生輝光放電，產(chǎn)生等離子體，將處理過(guò)的工件完全覆蓋真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體，開(kāi)始清洗作業(yè)，一般清洗處理持續(xù)時(shí)間從幾十秒到幾分鐘不等。蝕刻機(jī)可以讓等離子體腐蝕印制電路板，使其具有更好的粘合性能，如粘合性和裝飾性。
4、CRF等離子體清潔機(jī)處理完成后，切斷電源，通過(guò)真空泵排出氣體和汽化污物。