誠(chéng)峰智造plasam體處理可以濺射清掉瀝青拋光的硅片表面加工變質(zhì)層：
       誠(chéng)峰智造plasam體表面處理是近十幾年來(lái)發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)技術(shù)，由于其采用全干法、無(wú)污染處理效果好而廣泛應(yīng)用。
等離子體中離子能量達(dá)到數(shù)百電子伏特，不僅可以清掉表面吸附微細(xì)雜物，并且還能對(duì)硅片表面進(jìn)行濺射拋光。等離子體處理可以降低硅片表面粗糙度，清掉加工變質(zhì)層。

       射頻功率會(huì)直接影響氣體電離的密度和離子的能量，從而影響等離子體對(duì)硅片表面作用效果。誠(chéng)峰智造plasam體表面處理是利用高能離子作用于硅片表面，通過(guò)碰撞優(yōu)先濺射掉表面松散原子層(即拋光變質(zhì)層)，又處理是在真空環(huán)境下進(jìn)行，硅片表面不易被污染，從而獲得新鮮的致密的真實(shí)表面，提高了超光滑光學(xué)表面的質(zhì)量，有利于外延膜的生長(zhǎng)。
       誠(chéng)峰智造plasam體處理前，液滴在硅片表面沒(méi)有鋪展開(kāi)，并且形狀是不規(guī)則的；經(jīng)等離子體處理后，液滴在表面鋪展開(kāi)，平均鋪展面積是處理前的4.6倍，并且形狀為規(guī)則圓形。這說(shuō)明硅片經(jīng)等離子體處理后，表面能得到提高并且變得均勻。
       瀝青拋光的硅片表面必然存在加工變質(zhì)層，誠(chéng)峰智造plasam體處理可以濺射清掉加工變質(zhì)層，減少表面缺陷，大大提高了硅片表面潔凈度和表面能，從而獲得新鮮致密均勻、平坦的超光滑表面。