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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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crf真空等離子清洗機(jī)對(duì)雙基片臺(tái)表面的改性有什么效果

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       金剛石有著強(qiáng)的硬度、熱導(dǎo)率、化學(xué)穩(wěn)定性及其光學(xué)反射率等物理和化學(xué)性能,這些優(yōu)異性能,使得金剛石在許多領(lǐng)域都可以作為一種理想材料。例如可以用作電子束引出窗口、高頻高功率電子器件、高靈敏的表面聲學(xué)波濾波器、切削工具等。

真空等離子清洗機(jī)



       crf真空等離子清洗機(jī)化學(xué)氣相沉積(MPCVD)金剛石進(jìn)行合法性制備,MPCVD法制金剛石的優(yōu)勢(shì)變得十分明顯,世界高端金剛石基本上都是通過(guò)MPCVD與其他生長(zhǎng)方法相比,MPCVD法律原因具有無(wú)極放電、生長(zhǎng)速度快、金剛石雜質(zhì)少等優(yōu)點(diǎn),已成為金剛石生長(zhǎng)的理想方法。
       近年來(lái),MPCVD技術(shù)獲得了較大突破,對(duì)金剛石沉積工藝參數(shù)影響的探討已經(jīng)趨于成熟,但對(duì)MPCVD裝置諧振腔的研究還有待進(jìn)一步深人。微波諧振腔是MPCVD該裝置的核心部件和不同射頻真空等離子體清洗機(jī)的微波諧振腔結(jié)構(gòu)會(huì)影響電場(chǎng)的強(qiáng)度和分布,從而影響等離子體的狀態(tài),并相應(yīng)地影響鉆石沉積的質(zhì)量和速率。MPCVD裝置微波諧振腔的結(jié)構(gòu)探討對(duì)于金剛石生長(zhǎng)方面也是有著價(jià)值的。
       常用的MPCVD法生長(zhǎng)金剛石所用的諧振腔有不銹鋼諧振腔式和石英鐘罩式,石英鐘罩式利于生長(zhǎng)大面積的金剛石薄膜,但速率較慢且容易污染石英管,而不銹鋼諧振腔式設(shè)備則有著生長(zhǎng)速率快的特點(diǎn)。


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