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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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等離子體清洗在應(yīng)用中會(huì)有哪些制約因素對(duì)其有什么影響?

一、傳統(tǒng)清洗法具有的劣勢(shì)有?

傳統(tǒng)式的清洗方式 包含水清洗、有機(jī)溶劑清洗和化學(xué)性質(zhì)等,一般是超聲波分離處理、超高壓噴射等物理上的作用和增溶、轉(zhuǎn)化等化學(xué)效應(yīng)互相融合以做到清洗的作用。這種清洗方式 看起價(jià)格便宜,但會(huì)損耗大量的的再生資源及產(chǎn)生環(huán)境污染問題。清洗常用的有機(jī)溶劑大多數(shù)是易燃性或有害的化學(xué)物質(zhì),排出去的廢水及工業(yè)廢氣對(duì)生態(tài)環(huán)境產(chǎn)生了比較嚴(yán)重的毀壞。 利用傳統(tǒng)式濕式的清洗方式 處置后,表面層總會(huì)有許多水或有機(jī)化學(xué)殘余,還必須選用別的方式 進(jìn)行第二次清洗。


等離子體清洗機(jī)使用前須知 

等離子清洗與傳統(tǒng)溶劑清洗方式相比,等離子清洗有許多優(yōu)點(diǎn),在電子、航空、醫(yī)療、紡織、半導(dǎo)體等領(lǐng)域運(yùn)用廣泛。在半導(dǎo)體封裝中,等離子清洗技術(shù)也越來(lái)越多地用于倒裝填料前基板填料區(qū)域的活化清洗、鍵合前鍵合焊盤的去污清洗、塑封包封前基板表面的活化清洗等。根據(jù)等離子體產(chǎn)生的機(jī)理,等離子清洗方式主要有3種,分別是直流等離子清洗、射頻等離子清洗和微波等離子清洗,在實(shí)際應(yīng)用中需要根據(jù)具體情況來(lái)選擇使用。

等離子清洗

等離子清洗法優(yōu)勢(shì)有:

采用等離子清洗,不會(huì)污染環(huán)境、不需要清洗液體、清洗效果好、清洗效率高等優(yōu)勢(shì),還可以活化物體表面、增加表面潤(rùn)濕性能、改善黏著力,能夠讓清洗速率得到增進(jìn)。

等離子體清洗,不論是金屬材料、半導(dǎo)體材料、金屬氧化物,或是高分子原材料(如聚丙稀、高密度聚乙烯、四氟乙烯、聚酰亞胺膜、聚氨酯、環(huán)氧樹脂膠等高分子化合物)都能夠運(yùn)用等離子體來(lái)清理,所以非常合適于不耐高溫及其不耐溶劑的材質(zhì)。并且還能夠有有選擇性的對(duì)材質(zhì)的總體、局部性或復(fù)雜性構(gòu)造做好部分清洗;

等離子清洗要操縱的真空值約為100Pa,這類清潔條件非常容易達(dá)到。因而這類裝置的機(jī)器設(shè)備生產(chǎn)成本不高,再加上清潔過程無(wú)需應(yīng)用價(jià)錢極為高昂的有機(jī)溶液,這導(dǎo)致總體生產(chǎn)成本要低于傳統(tǒng)的濕法清潔工藝;
在成功完成清洗去污的同一時(shí)間,還能夠改善材料自身的表面層性能。如提升表面層的潤(rùn)濕性能、改善膜的黏著力等,這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。

那么等離子體清洗在應(yīng)用中需要汪意一些制約因素有哪些呢?

1.不能用這種方法除去物體表面的切削粉末,這點(diǎn)在清洗金屬表面油垢時(shí)表現(xiàn)尤為明顯

2.實(shí)踐證明不能用它清楚很厚的油污,雖然用等離子體清洗少量附著在物體表面的油垢有很好的效果,但是對(duì)厚油垢的清除效果往往不佳,一方面用它清除油膜,必須延長(zhǎng)處理時(shí)間,使清洗的成本大大提高,另一方面有可能是它在與厚油垢相互接觸的過程中,引發(fā)油垢分子結(jié)構(gòu)中的不飽和鍵發(fā)生了聚合,偶聯(lián)等復(fù)雜反應(yīng)而形成較堅(jiān)硬的樹脂化立體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)有關(guān)。一旦形成這類樹脂膜他將很難被清除。因此通常只用等離子體清洗厚度在幾個(gè)微米以下的油污。

3.在應(yīng)用過程中還發(fā)現(xiàn)不能用等離子體清洗很好除去表面粘附的指紋,而指紋是玻璃光學(xué)元件上常出現(xiàn)的一種污染物。等離子體清洗也不完全不能用于出去指紋,但這需要延長(zhǎng)處理時(shí)間,這時(shí)又不得不考慮到這是他會(huì)對(duì)基材的性能造成不良的影響。所以還需要采用其他清洗措施進(jìn)行預(yù)處理相配合。結(jié)果使清洗工藝過程復(fù)雜化。

4.由于等離子體清洗過程需要進(jìn)行真空處理,而且一般為在線為在線或批量生產(chǎn),因此在把等離子體清洗裝置引進(jìn)生產(chǎn)線時(shí),必須考慮到被清洗工件的貯存和移送的問題,特別是當(dāng)被處理工件體積較大,數(shù)量較多更應(yīng)考慮到這個(gè)問題。

綜上所訴可知:等離子體清洗技術(shù)適用于對(duì)物體表面的油,水及微粒等輕度油污進(jìn)行清洗,而且利于“速戰(zhàn)速?zèng)Q”的在線或批量清洗。
等離子清洗機(jī)在清除表面層污染源的時(shí)并不會(huì)造成健康或安全隱患。

相對(duì)于對(duì)清潔度標(biāo)準(zhǔn)高的高精密電子元器件還需應(yīng)用精細(xì)化清洗加工工藝。等離子體清洗便是一類能合理有效取代化學(xué)清洗的加工工藝,除此之外,等離子體清洗也可與水洗加工工藝結(jié)合在一起,以加強(qiáng)清洗處理的實(shí)際效果。等離子體干法清洗同樣是對(duì)水洗的一類非常不錯(cuò)的相輔相成加工工藝。

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