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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

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射頻真空等離子清洗機(jī)可對珠寶表面進(jìn)行清洗

      為了滿足珠寶行業(yè)對產(chǎn)品美觀性、功能性和耐久性的高要求,射頻真空等離子清洗機(jī)的應(yīng)用變得越來越重要,由于等離子體本身可以在處理溫度低、間隙滲透性高的情況下進(jìn)行超精細(xì)清洗。
       射頻真空等離子清洗機(jī)是1種智能化設(shè)備,運(yùn)用等離子體達(dá)到傳統(tǒng)清洗方法無法達(dá)到的效果。其中產(chǎn)生的等離子體是一種物質(zhì)聚集狀態(tài),也稱為第四物質(zhì)狀態(tài)。通過將工藝氣體通入設(shè)備腔體,向氣體施加足夠的能量,將其分離成等離子體狀態(tài),最終等離子體與處理物體發(fā)生反應(yīng),從而達(dá)到處理效果。

射頻真空等離子清洗機(jī)

      在珠寶行業(yè),如果plasma在表盤粘接前清洗,可以去除框架和表盤表面的原始污染物,刺激表面活性,降低粘接成本,使表盤粘接更加牢固。如果不使用等離子體清洗,粘接價格會更高,甚至可能導(dǎo)致粘接不牢固,表面涂層的成品率可能會降低,產(chǎn)品的使用壽命可能會縮短。
       此外,plasma技術(shù)過程極其環(huán)保,不會在需要處理的零件上留下任何清潔液殘余物。這是一個環(huán)保的過程,也正是因為這些原因,等離子技術(shù)對珠寶行業(yè)非常重要。此外,在一些常規(guī)的清潔方法中,會使用既有殘余物又需要干燥時間的清潔液。由于清潔液通常對環(huán)境有害,所以在這個過程中會產(chǎn)生很高的廢棄處理成本。最終,鑒于珠寶行業(yè)附加的干燥過程,會帶來很多時間損失。
       CRF射頻真空等離子清洗機(jī)可以在較低的處理溫度下進(jìn)行超精細(xì)清洗,因此不需要對組件進(jìn)行額外的干燥。通過這種方法,珠寶可以通過等離子體處理來提高原材料的表面張力值,去除酸洗或其他工藝,環(huán)保經(jīng)濟(jì),使粘結(jié)結(jié)果更加牢固、光滑、美觀。

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