經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對(duì)消費(fèi)品的質(zhì)量要求也越來(lái)越高。各種技術(shù)問(wèn)題的不斷提出，新材料的不斷涌現(xiàn)，越來(lái)越多的科研機(jī)構(gòu)已認(rèn)識(shí)到等離子技術(shù)的重要性。硬盤(pán)塑料件科學(xué)的發(fā)展，技術(shù)的不斷進(jìn)步，電腦硬盤(pán)的各項(xiàng)性能也不斷提高，其容量越來(lái)越大，碟片數(shù)量隨之增多，轉(zhuǎn)速也高達(dá)7200轉(zhuǎn)/分，這對(duì)硬盤(pán)結(jié)構(gòu)的要求也越來(lái)越高，硬盤(pán)內(nèi)部部件之間連接效(果)直接影響硬盤(pán)的穩(wěn)定性、工作可靠性、使用壽命，這些因素直接關(guān)系到數(shù)據(jù)的安(全)性。 

       服務(wù)器上的硬盤(pán)數(shù)據(jù)致關(guān)重要，而且隨著硬盤(pán)的存儲(chǔ)量越來(lái)越大，穩(wěn)定性越來(lái)越難以達(dá)到要求，因此提高服務(wù)器硬盤(pán)的穩(wěn)定性成為業(yè)界的不懈追求。而硬盤(pán)的穩(wěn)定性依賴(lài)于硬盤(pán)支架與盤(pán)面的壽命和穩(wěn)定性，其中硬盤(pán)支架上的HC和陰離子數(shù)目超標(biāo)將直接導(dǎo)致硬盤(pán)在運(yùn)行的過(guò)程中容易造成類(lèi)似干電池的腐蝕，繼而丟失數(shù)據(jù)甚致硬盤(pán)報(bào)廢，而用傳統(tǒng)的方法很難有效降(低)其數(shù)量，因此，HC和相關(guān)陰離子很難降(低)到標(biāo)準(zhǔn)要求成了硬盤(pán)領(lǐng)域發(fā)展的一個(gè)瓶頸，屬于業(yè)界公認(rèn)的難題。目前為了(降)低HC和相關(guān)陰離子數(shù)目多采用化學(xué)清洗方式，良品率低，效(果)不理想。誠(chéng)峰智造等離子清洗機(jī)通過(guò)長(zhǎng)達(dá)半年的工藝探索，與客戶(hù)深入合作，通過(guò)修改清洗配方，更改反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)材質(zhì)、提高腔內(nèi)清洗均勻性等等，終于可靠將HC和相關(guān)陰離子數(shù)目降到標(biāo)準(zhǔn)要求以?xún)?nèi)，該項(xiàng)技術(shù)已經(jīng)在國(guó)(際)硬盤(pán)支架市場(chǎng)占有量第壹的生產(chǎn)基地得以推廣應(yīng)用，大大提高了成品的良品率，縮減了生產(chǎn)成本，更關(guān)鍵的是提高了硬盤(pán)的穩(wěn)定性和壽命，可靠性及抗碰撞性也有明(顯)的改善。給客戶(hù)帶來(lái)了很大的經(jīng)濟(jì)效益和發(fā)展契機(jī)，甚致可以說(shuō)，等離子處理在提高硬盤(pán)品質(zhì)領(lǐng)域的成功應(yīng)用成為硬盤(pán)發(fā)展史上一個(gè)新的里程碑。
       等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的成效。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。